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第326章 出题与解题（第1页）

“林总，我想向您再三强调，佳能的NIL技术拥有极大缺陷，它绝对不像佳能所宣传的那样友好！

它存在着至关重要，几乎，在我看来无法解决的缺陷！”

申海交通大学，前沿技术中心，此次带队前往霓虹栃木县的宇都宫市，负责从佳能光学技术研究所全套接收NIL技术的陈磊博士说道。

陈磊博士，是华国顶尖凝聚态物理领域的专家，此前在阿美莉卡的德克萨斯州电子研究所工作，是华国花费大力气才引进回国的人才。

也是在座众人中，唯一和佳能的NIL光刻机实际接触过的华国工程师。

佳能在2023年10月正式宣布推出其首款用于商业化生产的NIL设备FPA-1200NZ2C，并成功交付给铠侠、SK海力士等存储大厂以及阿美莉卡的研发机构。

让设备可以在客户的工厂里进行验证、测试和工艺磨合。

其中阿美莉卡负责接收NIL设备的就是德克萨斯电子研究所，它也是阿美莉卡半导体研发联盟的核心成员之一。

而德克萨斯电子研究所拿到这台设备，不是用于生产，而是用于先进半导体的研发和原型制作。

林燃点了点头，示意陈磊继续说下去。

这还是这位NIL领域唯一的华国工程师回国后，他第一次见到对方。

毕竟林燃太忙，才回申海，陈磊也才回国。

陈磊深吸一口气，点了点头。

他摘下眼镜，用绒布仔细地擦了擦，这个习惯性的动作让他纷乱的思绪重新变得清晰有序。

“好的，林总。”他重新戴上眼镜，目光扫过在场的每一个人。

“首先，我要承认，佳能的宣传并非谎言。

在理想条件下，N-IL确实能做到他们所说的一切。

我甚至亲眼见过，在他们的实验室里，用NIL技术压印出的单层晶圆样品，其精度和良率都达到了惊人的水准。

但这就像是概念跑车，在专业赛道上能跑出破纪录的速度，可一旦把它开到城市拥堵的街道上，它可能连一辆普通的家用车都不如。

它的缺陷，不是出在上限，而是出在下限，出在从实验室走向大规模量产的每一个不起眼的环节里。

我把它总结为以下几点，首先是我认为最要命的，我称之为缺陷瀑布。”

这个词一出口，就引起了一阵小小的骚动。

中芯国际的代表梁孟松显然对缺陷这个词很敏感，他马上皱起了眉头。

陈磊伸出一根手指，语气变得无比严肃：“传统的光刻，无论是DUV还是EUV，都是非接触式的。

这点在座各位我相信都非常清楚。

光穿过掩膜版，投射在晶圆上。

即使掩膜版上有一个尘埃，经过光学系统的缩小，对单个芯片的影响也相对可控。

但NIL是接触式的，是物理压印！

这意味着，只要有一个纳米级的颗粒掉在模板上，或者在压印过程中产生，会发生什么？”

他停顿下来，让所有人有时间能思考这个问题。

“结果就是，这个缺陷会被模板像图章一样，盖在它接触的每一个芯片单元上。

更可怕的是，这个颗粒可能会污染模板，让模板本身成为一个污染源，在后续的每一片晶圆上，不断地、重复地复制这个缺陷。

这不是一个点的问题，而是一条线的、一个面的灾难。

我们称之为DefectPropagation，缺陷传播。

在德州电子研究所，我们曾经有一个项目，就是因为一次微小的污染，导致连续报废了13片晶圆，直接损失超过80万美元。